不过也有说法是Intel包圆了ASML这几年来的High NA EUV产能,大年夜约有6-7台,可以说异常壕了,毕竟台积电、三星并不计算第一时光就抢购High NA EUV光刻机。

18A工艺已经在Intel位于亚利桑那州的Fab 52工厂量产,达产时月产能将达到4万片晶圆,良率表示据说也达到了预期。

Intel 10月份组织了一次工厂行,开放了Fab 52工厂参不雅,还展示了先辈的EUV光刻机,然则18A工艺还有很多机密没有颁布,很可能用上了下一代的High NA EUV光刻机作为杀手锏。

High NA型是当前EUV光刻机的下一代产品,主如果NA指标从0.33晋升到了0.55,可以进一步晋升光刻分辨率,然则成本晋升也是巨大年夜的,一台售价要4亿美元,约合28亿元,比当前EUV光刻机1.5-2亿美元的价格翻倍还多。

Intel在EUV光刻机商落后了,是以把High NA EUV视为工艺翻身的机会,前几年就官宣成为High NA EUV的首家客户,从Intel这两年颁布的信息来断定,他们至少买了3台High NA EUV光刻机了。

Intel如斯大年夜手笔购买High NA EUV是做什么用的?此前他们提到会鄙人一代的14A工艺上应用这种光刻技巧,然则14A还没建厂呢,今朝最多是在实验开辟中。

Intel本身披露的消息称,他们每个季度应用High NA EUV临盆跨越3万片晶圆,也就是每个月1万片晶圆,要知道1万的产能对实际量产的工厂来说都不小了,如今Intel在技巧研发上就如斯大年夜量临盆,其实是太烧钱太奢侈了。

这不太合理,那High NA EUV光刻机可能还有一种用处,就是如今的18A工艺上已经机密应用了这种光刻机,但Intel不计算宣传也不计算颁布。

猜测Intel的设法主意是把High NA EUV作为18A工艺秘而不泄的优势,打竞争敌手一个措手不及,延长Intel在High NA EUV技巧上的优势。

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