ASML筹划将EUV光源功率提至1000W 2030年每小时晶圆产量可晋升50%

更值得存眷的是，在产能大年夜幅晋升的同时，单片晶圆的制造成本根本保持不变。这意味着，芯片制造商在不增长干净室面积、不额外采购新设备的前提下，仅经由过程现有设备的机能进级，就能实现产能的明显跃升。

跟着光源功率跃升至千瓦级别，光刻机的产能也将随之实现跨越。据ASML测算，当光源功率晋升至1000瓦后，2030年每小时晶圆处理才能可从220片晋升至330片，增幅高达50%。

不过，这一技巧何时可以或许真正落地，今朝尚无明白时光表。外界分析认为，ASML将来可能会以进级套件的情势向客户供给光源进级办事，但并非所有型号的EUV光刻机都具备进级前提，具体适配范围仍有待进一步披露。

对于ASML而言，1000瓦显然不是终点。Purvis泄漏，团队已经在摸索将光源功率推向1500瓦甚至2000瓦的可能性。

跟着光源功率的持续攀升，EUV光刻机的产能天花板还将被赓续推高，为将来更复杂、更宏大年夜的芯片制造需求铺平门路。