2D NAND闪存最早在上世纪90年代末被引入,并持续量产多年,但近几年各大年夜存储厂商已陆续将重心转向堆叠构造的3D NAND。 比拟传统平面NAND,3D NAND在容量密度、靠得住性以及整体机能方面都有明显优势,合适应对数据中间与高端终端设备的需求。 三星筹划在本年3月彻底停止2D NAND临盆,为3D NAND及其他高附加值存储产品腾出更多制造空间。

报道指出,三星位于韩国华城基地的12号临盆线今朝重要用于临盆2D NAND,这一工艺已属于“老旧技巧”。 该产线具备每月约8万至10万片12英寸晶圆的产能,但在3D NAND周全代替平面NAND的大年夜趋势下,其原有效处已不再相符市场偏向。 三星并未选择简单关停该举措措施,而是将个中大年夜量仍具价值的晶圆制造设备转用于DRAM金属化工序,即在DRAM芯片内部形成连接存储单位的金属导线通路。

完成改革后,华城12号线将用于临盆三星第六代10 nm级1c DRAM,这一工艺节点被用于下一代HBM4产品。 三星估计,到本年下半年,其1c DRAM总月产能可晋升至约20万片晶圆,华城改革产线将与平泽的P3、P4临盆线协同运作,为HBM4供给更多产能支撑。

业内人士认为,经由过程将原2D NAND产线改革为DRAM及HBM相干产能,三星有望在全球高带宽存储市场中进一步巩固地位。 在当前存储器供给趋紧的大年夜背景下,增长先辈DRAM与HBM的有效产能,亦有助于在必定程度上缓解存储供给重要和价格上行压力。

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