ASML全新EUV光刻机重大飞跃 1000W功率+50％、产能+50％
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ASML全新EUV光刻机重大年夜飞跃 1000W功率+50％、产能+50％

ASML全新EUV光刻机重大年夜飞跃 1000W功率+50％、产能+50％

ASML阿斯麦近日确认，全新一代TwinscanNXEEUV光刻机研发进展顺利，光源功率将提升50％达到1000W，生产效率也将提升20％达到每小时330块晶圆，预计2030年或更晚时候面世。ASML对这一成就极为自豪，并且信心满满，认为已经找到1500W光源的清晰技术路径，而且理论上讲做到2000W也不存在根本性障碍！
互联网 2026年02月26日