张晓强直言新一代设备“异常异常贵”,并表示现有EUV设备仍能充分发挥价值,知足当前临盆与研发需求。

这款光刻机是支撑1.4nm及以下先辈制程的核心设备,分辨率与制程才能明显优于上一代,但成本也同步大年夜幅攀升。

其价格接近通俗EUV设备的1.8倍,超高订价源于独家光学组件、复杂光源体系与漫长调试周期,加之全球仅阿斯麦能供给,进一步推高了终端售价。

阿斯麦本来筹划2027—2028年大年夜范围量产High‑NA EUV,并设定2030年营收目标,如今面对客户不雅望的挑衅。

台积电并非完全放弃该技巧,此前已采购少量设备用于研发,但不消于量产。

公司正经由过程工艺优化降低对新设备的依附,近期颁布A13与N2U两项新工艺,分别筹划2029年与2028年投产,在不依附新一代光刻机的情况下晋升芯片能效、缩小面积,兼顾成本与机能。

作为阿斯麦最大年夜客户,台积电暂缓采购将影响后者新设备量产节拍。

当前台积电本钱开支压力较大年夜,资金优先投向了3nm扩产、2nm研发与产能构造。

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